米Intelは7月25日、300ミリウエハー製造施設「Fab 32」をアリゾナ州チャンドラーに新設する計画を発表した。
新施設は30億ドルを投じて即時建設に着工、45ナノメートル製造技術を使った最先端のマイクロプロセッサ製造を2007年下半期から開始する計画。
Intelの300ミリウエハー製造施設は現在4カ所で運営されているほか、アリゾナ州のFab 12が年内に、アイルランドの拡張施設Fab 24-2が来年1〜3月期に運営を開始する計画。Fab 32は6番目の施設となる。
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